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納米壓印支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。

EVG6200 NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱，可在最小的占位面積上提供了優(yōu)于其他品牌的掩模對準技術，并具有最高的產能，優(yōu)良的對準功能和優(yōu)化的總擁有成本。操作員友好型軟件，最短的掩模和工具更換時間以及高效的*服務和支持使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。EVG6200 NT或安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對準系統有半自動或自動配置，并配有集成的振動隔離功能。

多功能EVG7300 UV納米壓印光刻系統可以支持多種相關的UV工藝:SmartNIL，晶圓級光學(WLO)和堆疊-三種功能合并在一個靈活的工具中

長達 150 毫米的自動化全場紫外納米壓印解決方案，采用 EVG 專有的 SmartNIL 技術

我們的EVG770分步重復納米壓印光刻機是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復制模板。結合金剛石車削或直接寫入方法，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱，在蕞小的占位面積上結合了優(yōu)良的對準功能和蕞優(yōu)化的總體擁有成本，提供了優(yōu)于其他品牌的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具，可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案，以滿足大批量生產要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件，蕞短的掩模和工具更換時間以及高效的*服務和支持，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。